两相冷板
贴合 GPU、CPU,工质在微通道内部分汽化。
液态进 · 气液两相出从芯片到室外的 SF33 泵驱两相热路
以 SF33 介电工质在冷板内沸腾取热,泵驱循环、CDU 冷凝,机柜内无水。面向 5,000 W+ 单芯片与超高密度 AI 机柜,把热设计边界推到单相水冷之外。
SF33 / TWO-PHASE
两相冷板贴合 GPU / CPU,工质在微通道内部分汽化;分液歧管把供液与回气分开;两相 CDU 用板式冷凝器把气相冷凝成液,再由 1+1 冷媒泵送回冷板;室外冷源完成最终排热。
二次侧使用 SF33 介电工质,不燃、不导电,降低漏水风险。
同样热量下,质量流量约为水(温升 5℃)的 37%–64%。
当前处于工程验证阶段,按项目出具测试与验收报告。
二次侧 SF33 泵驱两相循环,与一次侧室外排热解耦。冷板、CDU、管路和控制可成套交付。
贴合 GPU、CPU,工质在微通道内部分汽化。
液态进 · 气液两相出无滴漏快接头接入,变截面设计,多支路均流。
供液与回气分流板式冷凝器把气相冷凝成液,冷媒泵 1+1 送回冷板。
两相进 · 液态出干冷器或一体化冷机,高温时压缩机补冷。
水路或冷媒直连芯片热量直接进入工质,可用较高水温或自然冷却。
内存、电源等热量由两相液冷带走,同样由泵驱动。
冷板、CDU、管路和控制可成套交付;液冷比例按方案估算。
沸腾发生在饱和温度附近,多芯片温差更小;相同热量下,所需质量流量显著低于单相水冷。
沸腾在饱和温度附近进行,多芯片之间温差更小。
同样热量,约为水温升 5℃ 时流量的 37%–64%。
干度 0.2 时体积膨胀约 21 倍,歧管和回气管按此放大。
铜铝复合、分层针鳍与变截面歧管协同,把局部热点控制在干涸边界之内。
单芯片功耗设计目标,单相水冷基准 ≤2,500 W。
局部热流设计基准,CHF 裕度 ≥1.5。
微通道内分层针鳍,抑制局部干涸。
铜铝结构相对全铜基准,冷板重量降低 50%。
从 10 kW 机柜内集成,到 120 kW 级单柜、250–1,000 kW 液冷舱,再到 >5 MW 行间 CDU。
inRack CDU,覆盖 8 卡 PCIe 整机到约 100 kW 单柜。
inRow CDU 单柜能力设计目标。
板式冷凝器、储液器、过滤器、分液器与控制器成套。
CDU 自带 800V 泵驱动器,泵 1 / 泵 2 分接 A / B 路。
以 SF33 为基线工质,饱和压力低、汽化潜热高,适合泵驱两相回路。
低全球变暖潜值,不破坏臭氧层。
泄漏后果可控,配合泄漏探测与通风联动。
25℃ 饱和压力约 0.074 MPa(绝压)。
沸点下汽化潜热,单位流量取热能力高。
不是简单放大换热面积,而是同时管理均流、补液、排汽与两相稳定性。
按 Die / HBM 分区拓扑设计,局部热点单独强化。
入口节流均流 → 核态沸腾扰流 → 出口截面渐扩。
分层针鳍、TPMS 与点阵结构,兼顾补液、排汽与压降。
并联支路均流,抑制 Ledinegg 不稳定,管理 CHF 裕度。
1D 两相模型与 CFD / FEA 联合校核,DfAM 可制造性优化。
机加、钎焊、金属增材;清粉、CT、氦检;热阻、压降与 CHF 测试。
先用小回路校核流动与控制,再放大到多支路和整柜,最后进入项目验收。
校核流动不稳定、干度和控制模型。
验证多支路并联均流和系统级控制。
面向单柜超高密度(设计目标)。
Gen-3 单柜 1,000 kW,Gen-4 1,500 kW+(目标)。
容量和代际指标为目标计划,非商业承诺;试验进度和数据可在保密协议下提供。
以下为设计目标、设计准则或部件标称值,最终以项目验收报告为准。
5,000 W+、热阻 −70%、重量 −50%、>500 kW 等为设计目标;本版不含系统级实测数据。 SF33 物性来自供应商公开资料。
从 AI 加速卡到边缘算力,按热流密度、安装边界与接口条件组合选型。
5,000 W+ 单芯片与 HBM 高热带。
10–120 kW inRack 两相回路。
>500 kW InRack TP CDU。
250–1,000 kW 舱级 CDU,800V 直流。
随形流道与局部热点管理。
高功率密度器件与柜级热管理。
从热源评估到验收测试,按项目阶段交付。
告诉我们芯片功耗、机柜密度与现场条件,钛芯团队将给出冷板、CDU 与系统边界的组合建议。